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LGA-6100鐳射氣體分析儀
產品概述•··:
LGA-6100鐳射氣體分析儀基於半導體鐳射吸收光譜(DLAS)技術↟·◕•,無需取樣預處理系統↟·◕•,能夠在高溫•◕、高粉塵•◕、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位(in-situ)氣體濃度測量的高階分析儀表✘✘☁◕。LGA-6100鐳射氣體分析儀採用隔爆設計↟·◕•,無需對儀表進行正壓吹掃↟·◕•,提高儀表的應用適應性↟·◕•,為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩定的應用場合提供了完整的防爆選擇方案✘✘☁◕。
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產品概述
LGA-6100鐳射氣體分析儀基於半導體鐳射吸收光譜(DLAS)技術↟·◕•,無需取樣預處理系統↟·◕•,能夠在高溫•◕、高粉塵•◕、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位(in-situ)氣體濃度測量的高階分析儀表✘✘☁◕。LGA-6100鐳射氣體分析儀採用隔爆設計↟·◕•,無需對儀表進行正壓吹掃↟·◕•,提高儀表的應用適應性↟·◕•,為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩定的應用場合提供了完整的防爆選擇方案✘✘☁◕。
產品特點

● 測量精度高•◕、漂移小

● 原位隔爆減小對正壓氣源潔淨度的依賴

● 操作方便•◕、組網靈活

● 儀器穩定性高

應用領域
鋼鐵•◕、冶金•◕、熱電•◕、石化•◕、化工•◕、焦化等行業
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