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國產正當時 | 聚光科技全面佈局半導體精密檢測 ICP-MS新進展
聚光 釋出時間│₪↟:2021-12-01 聚光 來源│₪↟:鳳凰網₪☁·₪✘、中商網 聚光 瀏覽量│₪↟:11111

    

      聚光科技ICP-MS(等離子體質譜分析儀)自2020年全力推進半導體領域╃▩╃,近期╃▩╃,部分產品(科學儀器)實現積體電路製造頭部企業測試╃▩╃,目前產品穩定執行│◕↟。


       聚光科技於2015年分拆自身質譜業務成立子公司譜育科技│◕↟。譜育科技已掌握多個質譜分析技術平臺╃▩╃,針對半導體行業檢測需求╃▩╃,推出一系列高精度檢測儀器及線上監測系統╃▩╃,助力行業突破“卡脖子”關鍵技術│◕↟。

        半導體產品製造過程分為晶圓加工₪☁·₪✘、氧化₪☁·₪✘、光刻₪☁·₪✘、刻蝕等八大步驟╃▩╃,涉及矽片₪☁·₪✘、電子氣體₪☁·₪✘、光掩模₪☁·₪✘、光刻膠配套化學品等多類製造材料│◕↟。統計資料顯示╃▩╃,半導體元件製造業中約50%的產率損失是由產品及材料製造流程中的微量雜質汙染導致│◕↟。

        ITRS(國際半導體技術線路圖)提出╃▩╃,在超純水₪☁·₪✘、電子化學品₪☁·₪✘、電子特氣₪☁·₪✘、晶圓製造環境等各個環節╃▩╃,均需進行嚴格的環境汙染管控及汙染物檢測;如何將汙染降低到最小是半導體制程過程提升良率的難點│◕↟。半導體器件生產過程中涉及的化學品種類繁多₪☁·₪✘、測試元素種類眾多且檢測精度要求ppt量級╃▩╃,都對裝置效能及操作人員的汙染控制技術提出苛刻要求│◕↟。另外╃▩╃,隨著半導體器件的尺寸不斷縮小₪☁·₪✘、晶片中元件的密度不斷增加╃▩╃,生產過程中的汙染控制也愈發嚴格│◕↟。

       業內人士介紹稱╃▩╃,ICP-MS技術尤其四極杆型ICP-MS技術具備極低的檢測限和快速多元素測定功能╃▩╃,已逐漸成為半導體行業汙染分析實驗室的標準技術╃▩╃,在矽片表面雜質分析₪☁·₪✘、超純水₪☁·₪✘、超純試劑分析₪☁·₪✘、高純氣體分析等多個方面應用廣泛│◕↟。目前╃▩╃,半導體行業所使用的ICP-MS基本被美國及日本廠商壟斷│◕↟。

       公開資料顯示╃▩╃,譜育科技深耕高階科學儀器創新╃▩╃,在高階質譜領域積累了離子阱₪☁·₪✘、四極杆₪☁·₪✘、三重四極杆₪☁·₪✘、飛行時間等多個質譜分析技術平臺│◕↟。公司已建立半導體潔淨實驗室(100級)╃▩╃,在2021年相繼推出了冷模式ICPMS以及三重四極杆ICPMS/MS,兩款裝置可以實現亞ppt級別的超痕量金屬檢測╃▩╃,打破了海外廠商對超痕量金屬測試裝置的壟斷│◕↟。此外╃▩╃,公司針對14nm₪☁·₪✘、28nm等高階製程半導體企業開發的實時監測系統得到了各級積體電路基金的支援╃▩╃,其中一部分產品已經完成研發╃▩╃,處於樣板點建立階段│◕↟。

       基於譜育科技的研發實力╃▩╃,聚光科技於2020年成立半導體事業部╃▩╃,整合自身質譜₪☁·₪✘、光譜₪☁·₪✘、色譜等高精密檢測分析技術╃▩╃,以及各類進樣技術和軟體演算法等綜合能力╃▩╃,推出一系列解決方案╃▩╃,覆蓋了痕量/超痕量金屬汙染檢測₪☁·₪✘、潔淨室AMC線上監測₪☁·₪✘、蝕刻劑近紅外分析₪☁·₪✘、特氣監測與預警等半導體全產業鏈精密檢測分析領域│◕↟。


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